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读懂离子渗氮技术

  我国离子渗氮技术的发展,借鉴了德国离子渗氮技术开发和生产应用的经验,自主研发和生产实践形成了我国大规模离子渗氮工业应用的局面。一般认为我国离子渗氮的发展,从1966年湖南湘江机器厂研制成功的小型离子渗氮装置开始,在20世纪70年代初开始工业应用,到80年代中期我国离子渗氮设备和工业应用规模已在世界上占据首位。
子渗氮技术的独有特点是离子轰击、溅射清理和离子激活(Plasmaactivation)。离子激活是形成优质渗氮层的根本保证,激活扩散贯穿在离子渗氮过程始终。离子激活使NH3、N2、H2原子分解产生活性离子,同时离子激活阴极工件表面产生大量微观缺陷和活化表面,在活化表面上反应形成氮化物层,因此控制和调整离子激活条件是极其重要的。深入研究辉光放电的轰击加热、溅射反应和激活效应,对开发和完善离子渗氮工艺很有意义。
很多零件的渗氮,都要求形成一定厚度的化合物层,但由于渗氮化合物层脆性较大,往往限制了渗氮的应用。利用离子激活技术,可以形成γ?或γ?+α组成的高韧性渗氮化合物层,大大推进了离子渗氮在高端技术要求方面的应用。

 

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